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熱搜關(guān)鍵詞:流體拋光機(jī),磨粒流拋光設(shè)備,內(nèi)孔拋光

精沖模具內(nèi)型腔鏡面拋光,磨粒流工藝拋光至Ra0.2μm以下

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編輯時(shí)間: 2021-10-15 16:20:19

精沖模具拋光前型腔粗糙度為Ra0.5-0.6μm,拋光單邊去除量不得超過0.001-0.0015mm,要求拋光至Ra0.2μm或以下(鏡面效果)。模具型腔呈齒輪結(jié)構(gòu),或不規(guī)則形狀。

拋光工藝:磨粒流

使用高分子彈性軟磨料,通過擠壓運(yùn)動(dòng),使彈性軟磨料通過精沖模具型腔或待拋光面,精細(xì)研磨,達(dá)到鏡面效果。

具體拋光過程可參考下圖,因?qū)嶋H加工中,模具是被保護(hù)在工裝內(nèi)看不到磨料運(yùn)動(dòng),所以用下圖作為參考。

拋光效率及效果:

節(jié)拍:每件1分鐘左右即可拋光完成(因模具底胚粗糙度較好,且要求去除量較低,所以不需要更長時(shí)間。如果底胚粗糙度比較差,可以再多拋1分多鐘)。

 

關(guān)于精度保持:

1、通常待拋光面原始粗糙度越好,拋光至鏡面后,去除量越小;

2、根據(jù)工件的材質(zhì)、粗糙度等特性,選擇適宜顆粒度的磨料;

3、通過調(diào)節(jié)拋光時(shí)間、壓力、流速等參數(shù),可控制拋光效果

當(dāng)然,磨粒流工藝拋光精沖模具,不僅能拋光型腔模具,還可以拋光一些外表面。

 

使用磨粒流工藝對精沖模具型腔拋光,具有以下優(yōu)點(diǎn):

1、更均勻:磨粒流拋光工藝,采用軟性磨料作為研磨介質(zhì),拋光效果均勻。而傳統(tǒng)拋光方式,極有可能造成拋光不均的現(xiàn)象。

2、更精密:磨粒流拋光,可最大限度地保持工件原始公差,拋光后去除量不過1μ左右。

3、安全環(huán)保:斯曼克磨粒流工藝采用環(huán)保磨料進(jìn)行物理研磨,磨料符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),不產(chǎn)生危險(xiǎn)性氣體、粉塵、化學(xué)溶液等,環(huán)保安全。

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